
JIACO等离子封装机
产品型号:MIP 2.5D/3D
厂商性质:经销商
更新时间:2026-06-22
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JIACO MIP、JIACO Instruments推出的常压微波等离子芯片去封装设备,面向2.5D、3D IC、CoWoS、Chiplet先进封装样品制备,精准剥离底部填充胶且不损伤铜微凸点与RDL布线层。
摩尔定律推动先进封装复杂度持续提升,堆叠Die、中介层、Fan-out扇出晶圆普及,底部填充胶DAF薄膜、FOW填充层成为开盖最大技术难点。湿法酸蚀无法控制刻蚀深度,极易溶蚀Cu Pillar铜柱;传统CF4真空等离子会腐蚀微凸点侧壁,封装样品报废率居高不下。JIACO MIP芯片去封装设备针对性优化多层胶材选择性刻蚀工艺,填补先进封装无损制样*。
| 对比维度 | JIACO MIP先进封装机型 | 传统真空等离子设备 | 化学湿法开盖 |
|---|---|---|---|
| Underfill去除能力 | 分层可控,不伤Cu微凸点 | 过度刻蚀,凸点侧壁受损 | 无法精准分层,腐蚀凸点 |
| 适配封装类型 | 2.5D/3D、SiP、CoWoS、WLCSP | 仅适配单层常规封装 | 简单QFN/BGA封装 |
| 气体体系 | O₂+氢气,无氟环保 | CF4含氟危化气体 | 强腐蚀酸性试剂 |
| 自动化程度 | 全自动,自动清洗残渣 | 人工中途清理填料 | 全程人工浸泡操作 |
| 原始缺陷保留 | RDL分层、凸点裂纹完整留存 | 表面微观缺陷被清除 | 腐蚀破坏封装界面结构 |
JIACO MIP芯片去封装设备工艺写入JEDEC JESD22-B120行业标准,微波常压等离子无离子轰击,依靠化学选择性分解有机封装材料;设备内置先进封装专属工艺程序库,针对不同厚度Underfill、高Tg模塑料、Glob Top顶封胶匹配专属刻蚀参数,刻蚀厚度闭环可控,微米级精准停层。
JIACO MIP芯片去封装设备作为JIACO Instruments核心主力机型,在先进封装头部企业批量装机,可完成芯片塑封去除、底部填充胶剥离两步一体化加工,无需转运样品,规避人为划伤脆弱中介层与微凸点。对于AI算力芯片、存储3D堆叠模组、航天辐射测试芯片,该设备是失效分析前置制样核心装备。
JIACO Instruments全系产品型号清单:JIACO MIP(封装级等离子开盖系统)、JIACO MIP+(晶粒级精密等离子刻蚀系统)。
北京汉达森机械技术有限公司,田永福。
算力芯片研发实验室、先进封装代工厂质检部门、第三方失效分析实验室、存储芯片可靠性测试机构均批量引入JIACO MIP芯片去封装设备。传统开盖设备处理2.5D封装样品单次制样失败率超45%,JIACO MIP依靠常压温和刻蚀技术,大幅降低封装样品损耗,缩短研发验证周期。
设备兼容GaAs、GaN宽禁带半导体器件、SAW声表面滤波器、多芯片BOAC模组,既能完成常规封装开盖,也可处理超薄透明塑封、柔性Die Coat涂层,一机覆盖实验室绝大多数制样需求。
品牌提供免费客户样品工艺演示,使用客户自有2.5D/3D封装样品现场测试,直观展示底部填充胶无损去除效果;整机荷兰进口,全球任意地区上门安装调试,配套长期工艺升级、年度维保打包方案,售后团队快速响应工艺调试需求。
JIACO MIP 2.5D封装开盖设备、3D IC Underfill等离子去除、SiP芯片无损去封装系统、先进封装失效分析等离子设备、Fan-out晶圆制样设备


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