248 nm KrF分子激光器面向高校科研院所、企业研发中心、中小批量间歇加工场景，是通用性强的248 nm脉冲紫外光源。

MLI‑500‑KrF｜风冷248 nm KrF分子激光器，科研与中小批量微加工通用主力光源

248 nm KrF准分子激光，是深紫外加工领域应用广泛的波段之一，兼顾光子能量、光学元件成本、工艺适配性，大量用于微流控加工、材料表面改性、掩模检测、FBG光栅科研、LA‑ICP‑MS剥蚀、高分子器件加工。德国MLase MLI‑500‑KrF风冷分子激光器，最大重复频率500 Hz，风冷散热无需冷却水，部署便捷，性能均衡，面向高校科研院所、企业研发中心、中小批量间歇加工场景，是通用性强的248 nm脉冲紫外光源。

248 nm KrF分子激光器 

MLI‑500‑KrF，波长248 nm KrF，最大重复频率500 Hz；标准功率SP版本稳定脉冲能量7 mJ，最大12 mJ；高功率HP版本稳定脉冲能量12 mJ，最高可达16 mJ；脉冲宽度5‑10 ns，能量稳定性σ＜2%。作为风冷AC机型，必须注意占空比指标：500 Hz最高占空比40%，最多允许连续工作10分钟，之后需要停机冷却；200 Hz及以下重复频率，可以实现100%占空比持续运行。整机依靠空气对流散热，单相230V供电，无需水冷管路、换热器，开箱就位后接电源即可投入使用，适合实验室、研发车间不方便改造水冷基建的环境。整机尺寸560×315×445 mm，重量75 kg，体积紧凑，方便放置于光学平台旁或者集成到研发样机机柜内部。 

技术架构承袭MLase MLI系列全金属密封激光管，激光腔体连同光学窗口全部金属密封，显著延缓KrF工作气体消耗，动态气体寿命大于5000万次脉冲，减少气体更换频次，降低科研与研发场景运维工作量。电晕预电离技术带来均匀平整的矩形输出光斑，光束尺寸6×3 mm，发散角2×1 mrad，平顶特性好，降低后续光束整形光学的设计难度。内置脉冲能量闭环稳定控制系统，实时监测输出能量，自动补偿高压漂移、气体老化带来的能量变化，保障短时间实验内脉冲‑脉冲能量稳定性优于2%，保证多次实验之间的可对比性。固态脉冲电源模块，没有传统氘闸管老化问题，开机无需长时间预热等待，缩短实验准备时间。接口包含USB、RS‑232，原厂配套控制软件，可以设置重复频率、高压，读取脉冲计数、能量状态，支持自动气体交换流程；内置安全快门，满足EN 60825‑1激光安全规范，方便OEM样机集成，整机遵循ISO 13485质量体系生产，硬件可靠性经过数千台设备市场验证。 

248 nm KrF分子激光器

MLI‑500‑KrF风冷机型应用场景十分多元。科研领域：高校实验室248 nm微纳加工、光化学研究、LA‑ICP‑MS激光剥蚀采样、LIBS激光诱导击穿光谱、FBG光纤光栅工艺科研（注意：量产写制FBG建议选用FBG专项优化版本MLI‑500‑KrF‑FBG系列）；工业研发场景：PI、PET高分子薄膜微结构加工，微流控芯片原型制备，精细导线绝缘剥除，玻璃、陶瓷材料紫外刻蚀打样，光掩模清洗工艺开发；医疗器械研发，医用高分子导管、薄膜器件的微加工工艺探索。该机型适合间歇Burst脉冲模式，短时间曝光，样品更换频繁的研发打样工况。 

选型层面要区分MLI‑500‑KrF风冷AC和MLI‑500‑KrF‑LC水冷版本差异。风冷机型优势：部署简单，无冷却水需求，采购成本更优；限制条件是500 Hz高频下，最长连续工作10分钟，之后要冷却。如果你的应用是7×24小时不间断500 Hz量产产线，必须选择LC水冷型号；而如果你主要做研发、打样、工艺探索，以间歇工作为主，现场缺少水冷条件，MLI‑500‑KrF风冷就是高性价比选择。同时，如果核心任务是大批量FBG光栅生产，不建议直接使用普通MLI‑500‑KrF，应当选择经过光学专项优化的MLI‑500‑KrF‑FBG系列，获得更高相干长度，保障光栅光谱品质。 

MLase该系列风冷与水冷版本光束参数同源，研发阶段用MLI‑500‑KrF风冷机型积累的工艺参数，后期升级水冷LC量产机型时可以直接迁移，保护前期工艺开发投入。在很多高校、企业研发中心，空间和基建条件有限，水冷改造工程量大，MLI‑500‑KrF风冷机型，用简便部署条件获得工业级分子激光器的光束品质、脉冲稳定性和寿命。 

总而言之，MLI‑500‑KrF风冷248 nm KrF分子激光器，最大500 Hz重复频率，无需水冷配套，兼顾光束均匀度、脉冲能量稳定性与长气体寿命。面向科研实验室、企业研发中心间歇式打样与工艺开发，在充分遵守风冷占空比约束前提下，该设备可以覆盖绝大多数248 nm深紫外脉冲激光研发需求，是通用性很强的准分子光源。