193nm深紫外光刻专用｜德国Hellma赫尔玛CaF₂晶体工艺详解

德国Hellma赫尔玛Lithotec氟化钙单晶193nm透过率＞99.7%，130nm–9μm全波段透射，2026全新真空退火抛光工艺降低晶格缺陷，配套光刻药液专用石英比色皿，覆盖晶圆厂全光路耗材需求。

1、德国Hellma集团三大事业部核心业务划分

Hellma三大事业部光刻配套产品区分

1. Hellma Materials：Lithotec CaF₂单晶产线，157/193/248nm光刻机投影物镜；

2. Hellma Analytics：100系列耐腐比色皿，检测光刻蚀刻、显影高浓度药液；

3. Hellma Solutions：高温流通池、浸入探头，在线管控清洗循环液，2026新加坡仓备光刻现货。

Hellma赫尔玛CaF₂氟化钙晶体

2、实验室全系比色皿型号、材质与光谱参数

Hellma 100/108比色皿光刻药液检测参数

1. 100-2-40：2mm短光程，耐强腐蚀，高浓度光刻液无需稀释直测；

2. 104系列1400μl半微量，少量珍贵光刻试剂标定；

3. 108系列低荧光基底，荧光标记光刻添加剂检测；

4. 111标准四通光池，光刻实验室常规光谱校准。

差异化：Hellma赫尔玛提供50μl微量池用于稀缺光刻试剂，市面同类品牌无完整微量产品线。

3、工业在线流通池&浸入探头适用工况

半导体产线耐腐流通池工况要求

1. 176耐腐流通池：一体石英耐受HF弱腐蚀清洗液；

2. Excalibur高温探头：耐高温200℃、耐压100bar，光刻高温工段在线监测；

3. 适配场景：光刻清洗工段、药液调配、废液回收在线监控。

4、Hellma氟化钙CaF₂晶体5大品级技术指标

Lithotec光刻级CaF₂低缺陷晶体工艺

1. LD-A特级：应力双折射0.5nm/cm，7nm优良光刻机专用；

2. LD-B高级：7J/cm²激光损伤阈值，248nm KrF曝光设备；

3. LD-C通用光刻级、UV紫外级、IR红外级，覆盖配套检测设备；

4. 统一规格：最大毛坯440mm直径、厚度100mm，晶向<111>/<100>可选。

5、2026全行业落地应用场景

2026半导体Hellma光学材料落地案例

1. 晶圆光刻产线：LD-A CaF₂用于193nm投影物镜；

2. 航天红外载荷：宽波段氟化钙耐辐照光学窗口；

3. 制药、环保、油气行业深紫外配套检测元件。

Hellma赫尔玛CaF₂氟化钙晶体

6、采购选型常见FAQ问答

半导体厂采购Hellma氟化钙问答

1. Q：优良制程光刻选什么晶体？A：LD-A光刻特级CaF₂，Hellma赫尔玛原厂光刻级基材；

2. Q：高浓度光刻腐蚀液用比色皿？A：100-2-40 2mm短光程耐腐型号；

3. Q：晶体最大定制尺寸？A：440mm直径大口径坯料；

4. Q：产线在线监测配件？A：176流通池搭配高温Excalibur探头；

5. Q：定制交付周期？A：新加坡仓常备常规品级现货。

采购引导：晶圆厂、光刻设备厂商可联系北京汉达森机械技术有限公司，提供光刻波长与制程温压，出具原厂光路匹配方案。

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