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更新时间:2026-06-22
浏览次数:313JIACO MIP、JIACO Instruments自研JIACO常压等离子开盖设备,依托微波诱导等离子技术,解决传统强酸湿法、含氟真空等离子开盖带来的样品损伤、环保危废、人工效率低等行业痛点。
长期以来国内半导体失效分析实验室主流采用两种开盖工艺:湿法化学酸蚀、真空CF4等离子刻蚀。湿法酸蚀存在强酸储存安全隐患、废液危废处置成本高、铜线银线腐蚀报废三大硬伤;真空等离子依赖高真空机组,含氟气体耗材昂贵、腔体维护频繁,还会清除芯片表面原始污染缺陷,导致失效分析数据失真。JIACO常压等离子开盖设备以常压无氟、全自动、无损三大核心优势,成为新一代行业标准制样装备。
| 对比项目 | JIACO常压等离子开盖设备 | 真空含氟等离子 | 湿法酸蚀开盖 |
|---|---|---|---|
| 危废与耗材 | 仅氧气、氢气,无腐蚀危废 | CF4特种含氟气体,成本高 | 强酸废液,合规处置成本高 |
| 线材保护能力 | 金/铜/银/铝线零腐蚀 | 铜银线氧化受损 | 铜银线严重腐蚀溶解 |
| 设备运维难度 | 常压无真空泵,维保简单 | 真空机组定期保养换油 | 人工清洗、防护耗材消耗大 |
| 加工效率 | 流程缩短70%,全自动无人值守 | 抽真空耗时,中途人工清渣 | 浸泡数小时,全程人工看管 |
| 失效分析可靠性 | 完整保留原始缺陷、表面杂质 | 微观污染物被等离子清除 | 化学腐蚀破坏缺陷形貌 |
JIACO常压等离子开盖设备采用微波激发常压等离子体系,氢气基还原配方,仅通过气体化学反应分解环氧封装树脂,无离子物理轰击,不会损伤芯片钝化层、焊盘、微凸点结构。该技术被JEDEC纳入JESD22-B120标准,近百台设备落地汽车、存储、AI、先进封装头部企业,三十余篇行业论文验证工艺稳定性。
JIACO常压等离子开盖设备包含两大型号:基础款JIACO MIP专注封装开盖、款JIACO MIP+增加晶粒逐层剥层功能,覆盖从成熟制程IC到先进2.5D/3D封装全场景制样需求,是第三方检测机构、车企芯片实验室替换传统开盖设备的机型。
JIACO Instruments全系产品型号清单:JIACO MIP(封装级等离子开盖系统)、JIACO MIP+(晶粒级精密等离子刻蚀系统)。
北京汉达森机械技术有限公司,田永福。
替换原有湿法酸蚀设备后,实验室无需储存强腐蚀性化学试剂,省去危废处理资质、废液清运、人员防护装备持续投入;对比真空等离子设备,无需采购高价含氟特种气体,真空泵、密封件更换频次大幅降低,长期综合运营成本下降60%以上。
针对车规AEC Q006可靠性测试、航空辐射芯片检测、射频滤波器批量质检场景,JIACO常压等离子开盖设备全自动连续加工,样品制样一致性高,珍贵黄金故障样品可无损重复开盖,避免研发样品报废带来高额流片成本。
客户可寄送自有封装样品免费做开盖对比测试,直观对比酸蚀、真空等离子与JIACO常压等离子开盖设备的样品形貌差异;整机荷兰进口,上门装机、操作人员培训,配套终身工艺配方免费升级服务。
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