豪玛氟化钙光学晶体采用高纯度原料生长，透光区间可达**130 nm真空紫外至9 μm中红外**，填补熔融石英无法覆盖的中红外光谱区间。

不止石英——Hellma氟化钙CaF₂光学晶体，覆盖真空紫外到中红外的高性能光学基材

绝大多数常规石英光学材料在中红外波段（>2.7 μm）会出现显著本征吸收，无法胜任红外光谱、真空紫外、深紫外激光光学需求。氟化钙（CaF₂）单晶，是少数同时覆盖真空紫外、可见光、中红外的高性能光学晶体。德国Hellma Materials深耕氟化钙单晶生长与精密加工，Lithotec®光刻级CaF₂晶体，从晶体毛坯到成品窗口、透镜元件，为半导体光刻、FTIR傅里叶红外光谱、深紫外光学系统、激光设备提供顶级光学材料解决方案。

豪玛氟化钙光学晶体 

Hellma氟化钙单晶采用高纯度原料生长，透光区间可达**130 nm真空紫外至9 μm中红外**，填补熔融石英无法覆盖的中红外光谱区间。193 nm ArF准分子激光下10 mm厚度透过率大于99.3%每厘米；在2‑7 μm中红外区域保持高透过率，吸收系数极低，是傅里叶变换红外FTIR光谱仪窗口、红外比色皿的理想基材。晶体为立方晶系，可控制不同晶向（<111>、<100>）。<111>晶向版本应力双折射可以低至≤0.5 nm/cm，折射率均匀性优异，波前畸变小，抗193 nm/248 nm准分子激光，可承受>10⁹次脉冲辐照，不容易产生色心缺陷，是半导体DUV光刻投影物镜核心基材；<100>晶向具备优良可加工性，适合红外光谱窗口、红外光学元件大批量加工应用。 

关键光学参数：折射率nd=1.43384，阿贝数νd=95.23，超低色散，极大降低光学系统色差；热导率9.71 W/(m·K)，热性能优良，缓解热畸变；抗电离辐射性能优异，可用于空间航天光学系统；非线性折射率低，适配高功率激光光路系统。Hellma可以提供最大直径440 mm大尺寸晶体毛坯，同时提供切片、研磨、抛光、镀膜等全套精密加工，按照客户图纸定制窗口、透镜、棱镜、比色皿窗口片等元件，服务半导体、分析仪器、激光、天文、航天等行业。

豪玛氟化钙光学晶体 

主要应用方向：①半导体光刻：193 nm、248 nm光刻系统核心光学元件，支撑先进芯片制程；②红外光谱分析：FTIR红外光谱仪样品窗口、CaF₂红外比色皿，用于液体、固体样品红外透射测试；③深紫外分析仪器：真空紫外光谱仪光学窗口；④激光系统：准分子激光、高功率激光设备光束传输元件；⑤航天天文光学：抗辐射宽波段光学镜头与窗口。

材料使用注意点：氟化钙质地相比石英更脆，容易磕碰碎裂；耐水有限，长时间接触高湿度水汽会出现表面水解，储存需要干燥环境；避免强酸长时间接触。Hellma可以提供抗水解镀膜等可选后处理，提升恶劣环境下稳定性。

在石英材料力不能及的真空紫外与中红外领域，Hellma氟化钙CaF₂光学晶体，凭借高纯晶体生长技术、精密光学加工能力，为光学系统提供宽光谱的核心材料支撑。